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第三届“影响济南”科技人物36名获奖者中9人来自国家级院所

点击次数: 11    发布时间:2025-07-11 17:31:27

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届l济南技人级院b)PEDOT:PSS/Te纳米线(DTe)和Graphene/PEDOT:PSS/Te纳米线(GDTe)的S对比。影响图9.石墨烯量子点限制Bi2Te3晶体生长实现纳米化对热电性能的影响a)Bi2Te3晶体生长过程示意图。刘伟迪博士简介刘伟迪博士2020年毕业于澳大利亚昆士兰大学,获奖任职于澳大利亚南昆士兰大学,博士后研究员。

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届l济南技人级院2014-2017美国堪萨斯大学物理与天文系高级助理研究员。影响c)利用范德瓦耳斯力生长的Bi0.5Sb1.5Te3/石墨烯/SiO2/Si薄膜材料的载流子迁移率(μ)和载流子浓度(n)相比于Bi0.5Sb1.5Te3多晶和单晶。

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获奖d)(000l)择优取向的Bi2Te3/单壁碳纳米管复合薄膜和Bi2Te3薄膜面内方向σ对比。

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